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本实用新型提供一种铝合金材料离子镀膜设备转架屏蔽罩，包括转架底座，所述转架底座顶部对称固定有立杆，四个所述立杆顶部固定有顶环，所述转架底座外侧等距设有保护罩，所述保护罩呈扇形设置，且四个所述保护罩合并成圆形，所述保护罩靠近立杆的一端开设有半...
该专利属于深圳金迈克精密科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳金迈克精密科技有限公司授权不得商用。

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