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本发明公开了一种氧化铪/氧化锆铁电薄膜特性的调控方法和应用，利用原子层沉积方法在制备氧化铪与氧化锆交替沉积的原子层薄膜过程中，通过在特定原子层区域插入含有所需掺杂元素的氧化物的结晶引导层，以达到精确控制铁电薄膜在退火时形成指定的晶体结构。本...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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