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本发明涉及蚀刻液领域，尤其涉及IPC C23F1领域，更具体地，涉及一种高铜离子负载的铜金属蚀刻液组合物及其应用。通过选用特定的氧化剂、第一羧基化合物、氨基化合物、第一稳定剂、五元杂环化合物制备成高铜离子负载的铜金属蚀刻液组合物，该蚀刻液无...
该专利属于江苏和达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏和达电子科技有限公司授权不得商用。

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