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本发明公开了一种覆盖铝硅层固态电解质及其制备方法和应用，使用铝硅合金为靶材，通过磁控溅射的方法在LLZTO固态电解质片表面溅射适当厚度的铝硅缓冲层，当把熔融的金属锂浇筑到带有铝硅缓冲层的LLZTO表面上时，铝硅会与金属锂发生合金化反应生成锂...
该专利属于烟台大学所有，仅供学习研究参考，未经过烟台大学授权不得商用。

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