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本申请主要提供一种结晶器流场偏流的控制方法，所述方法包括：实时获取浸入式水口两侧的液位数据；基于所述液位数据，计算所述浸入式水口两侧的液位差；在所述浸入式水口两侧的液位差大于预定阈值时，调整所述浸入式水口在所述结晶器内的深度。本申请提供的技...
该专利属于首钢集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过首钢集团有限公司授权不得商用。

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