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本发明涉及一种高纯度依帕司他结晶的制备方法。现有技术中心依帕司他的结晶工艺存在溶剂毒性大、制备工艺复杂、工艺不稳定等技术缺陷。本发明目的是克服现有技术的不足之处，提供一种高纯度依帕司他的制备方法，能够降低依帕司他原料药中异构体杂质以及其他杂...
该专利属于北京达因高科儿童药物研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京达因高科儿童药物研究院有限公司授权不得商用。

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