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本实用新型公开一种清洗座、清洗基站和自清洁系统，清洗座包括底座本体和支架结构，底座本体具有收集腔；支架结构设置在收集腔内，且支架结构与底座本体可拆卸地连接，支架结构包括至少一套清洗机构，清洗机构具有清洗区。本实用新型解决了现有的一体式设计的...
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