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本发明提供了一种用于投影光刻的折反式物镜光学系统及投影光刻系统，其具有宽光谱适应的特性，并且结构简单、镜片枚数少，生产成本更低，第一镜组具有正光焦度，第二镜组具有负光焦度，所述第三镜组距离物面最远的镜面为反射曲面，所述反射曲面通过在第三镜组...
该专利属于张家港中贺自动化科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过张家港中贺自动化科技有限公司授权不得商用。

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