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本发明涉及一种移除薄膜中的杂质的方法以及一种衬底处理设备。移除薄膜中的杂质的方法包括以下步骤：在工艺腔室中提供上面形成有薄膜的衬底；将与薄膜中所包含的杂质发生反应以及结合的第一气体供应到工艺腔室中；在停止第一气体的供应之后，通过对工艺腔室的...
该专利属于株式会社尤金科技所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尤金科技授权不得商用。

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