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本发明公开了一种基于数字微透镜器件的多聚焦透镜阵列制作方法，涉及光刻技术领域；制作过程包括以下步骤，步骤一：准备制作多聚焦透镜阵列的灰度图，并将灰度图写入到DMD中；步骤二：根据写入到DMD中的多聚焦透镜阵列灰度图，对硅片曝光，将多聚焦透镜...
该专利属于中国测试技术研究院机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国测试技术研究院机械研究所授权不得商用。

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