下载用于干燥半导体基底的改进设备的技术资料

文档序号:34319571

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一种用于干燥圆盘形基底的设备,包括伸长体(1),该伸长体(1)向上逐渐变细以形成楔形部(A),该楔形部(A)具有在两个表面之间的角度α和上边缘,其中该上边缘适合保持该圆盘形基底,其特征在于,该两个表面包括多于一个的孔(2),每个孔(2)形成...
该专利属于硅电子股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过硅电子股份公司授权不得商用。

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