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本发明提供一种氧化镓场效应晶体管器件及其制备方法。该器件包括:衬底,设于衬底上的n型氧化镓沟道层,设于n型氧化镓沟道层上的漏电极和源电极,设于漏电极和源电极之间的栅介质层,设于栅介质层上的栅电极;n型氧化镓沟道层对应于漏电极和源电极之间的部...该专利属于中国电子科技集团公司第十三研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第十三研究所授权不得商用。
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本发明提供一种氧化镓场效应晶体管器件及其制备方法。该器件包括:衬底,设于衬底上的n型氧化镓沟道层,设于n型氧化镓沟道层上的漏电极和源电极,设于漏电极和源电极之间的栅介质层,设于栅介质层上的栅电极;n型氧化镓沟道层对应于漏电极和源电极之间的部...