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本发明提供一种利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的方法及装置。其中，该方法包括：预先确定硅衬底、介质膜以及金属膜组成的第三体系，并利用光谱椭偏仪测量所述第三体系中金属膜的椭偏参量；根据所述第三体系中金属膜的椭偏参量的特征峰出现的波长位置选择相应的...
该专利属于国家纳米科学中心所有，仅供学习研究参考，未经过国家纳米科学中心授权不得商用。

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