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公开了一种光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物包含：第一聚合物，该第一聚合物包含第一重复单元，该第一重复单元包含酸不稳定基团；和第二聚合物，该第二聚合物包含衍生自一种或多种具有式(4)的单体的重复单元；光酸产生剂；以及溶剂，其中Z1、Z2、...
该专利属于杜邦电子公司所有，仅供学习研究参考，未经过杜邦电子公司授权不得商用。

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