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本发明提供一种可精确控制高度的半导体激光器垂直脊型结构的制作方法,包括以下步骤:生长半导体外延膜层及ESL;在外延片上依次形成一次二氧化硅掩膜和一次光刻胶掩膜,并光刻成周期性的脊条窗口;ICP刻蚀氧化硅掩膜;继续ICP刻蚀外延层至一定深度,...该专利属于山东华光光电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东华光光电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种可精确控制高度的半导体激光器垂直脊型结构的制作方法,包括以下步骤:生长半导体外延膜层及ESL;在外延片上依次形成一次二氧化硅掩膜和一次光刻胶掩膜,并光刻成周期性的脊条窗口;ICP刻蚀氧化硅掩膜;继续ICP刻蚀外延层至一定深度,...