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本发明公开了一种全空间覆盖等离子杀毒设备及方法，包括基体，设置有上部喷射口和下部喷射口，起到支撑作用；等离子发生部，用于产生等离子，设置在基体内，通过上部喷射口和下部喷射口喷射到基体外部，与控制部连接；扫描装置，用于调节等离子发生部产生的等...
该专利属于雷神等离子科技（杭州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过雷神等离子科技（杭州）有限公司授权不得商用。

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