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本发明公开一镀膜系统、供料设备和镀膜方法，其中所述镀膜系统包括：一沉积反应装置，所述沉积反应装置用于通过等离子体化学气相沉积方式进行镀膜；一工作载气加热装置，用于为工作载气进行加热；和一原料提供装置，用于将反应原料转变为气体，其中在工作的过...
该专利属于江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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