温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明实施例公开了一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法。该检测方法包括：利用第一相移掩膜版，按照预设的曝光剂量在第一测试硅片上分别以不同的焦面位置进行曝光；检测不同焦面位置每个标记图形的相移误差，对相移误差和焦面位置的关系曲线进...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。