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本发明实施例公开了一种杂散光测量系统及其测量方法和装置，该测量系统包括：掩膜版，掩膜版具有遮光图案组合，遮光图案组合包括形状相同的第一图案和第二图案，第一图案的外边缘半径值大于第二图案的外边缘半径值，第一图案和第二图案的中心具有形状和尺寸均...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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