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本实用新型公开了一种气液相混合生长氮化镓单晶的装置，包括密闭腔体、用于盛放镓的容器、加热机构和等离子发生器，容器放置在密闭腔体中，镓放置在容器中，加热机构位于容器的底部和顶部使镓处于熔融状态，等离子发生器位于密闭腔体的外部，等离子发生器与密...
该专利属于芜湖启迪半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芜湖启迪半导体有限公司授权不得商用。

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