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本申请提供了一种可自清洗的基站及清洁系统，包括清洗槽，所述清洗槽中设有用于清洗清洁机器人的拖擦件的清洗结构，所述清洗结构相对于所述清洗槽转动设置，所述清洗结构包括清洗筋，所述清洗筋的顶端用于刮擦所述拖擦件上的脏污；所述清洗结构的底部设有与所...
该专利属于尚科宁家（中国）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过尚科宁家（中国）科技有限公司授权不得商用。

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