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一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用技术
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下载一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用的技术资料
文档序号:33966956
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本发明属于二维材料制备技术领域,具体涉及一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用,包括:将化学抛光的铜片置于预先配制的沉积溶液中,采用循环伏安法,在铜片表面预沉积得到铋纳米颗粒,沉积溶液中包含铋离子和溴离子,溴离子吸附在预沉积的铋...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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