温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供了一种非平衡磁控溅射镀钽装置，涉及电镀领域，包括箱体，箱体设置有用于镀膜的腔体，腔体内设置有筒形的负极接线板，负极接线板连接有带PWM控制器的溅射电源，负极接线板靠近圆心的一侧设置有筒形的钽金属靶材，负极接线板与钽金属靶材之间...
该专利属于湖南普林特医疗器械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南普林特医疗器械有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。