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一种铁片匀场方法技术
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文档序号:33853008
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本发明提供一种铁片匀场方法,以磁场均匀度偏差一范数与铁片厚度加权为目标函数。通过引入额外变量,实现磁场均匀度偏差一范数的去绝对值转换,使得目标函数转换为线性形式,再在原有铁片厚度约束中加入新引入变量的非负性约束以及磁场偏差一范数去绝对值后的...
该专利属于中国科学院电工研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院电工研究所授权不得商用。
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