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一种装置包括第一裸片，所述第一裸片包括第一基底，所述第一基底具有贯穿其中的第一硅通孔、第一顶部金属层、和第一烟囱式堆叠通孔，所述第一烟囱式堆叠通孔将所述第一硅通孔与所述第一顶部金属层连接。所述装置进一步包括最上层裸片，所述最上层裸片包括：最...
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