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本发明涉及一种在钙钛矿量子点薄膜上制备可擦除图案的方法，该方法包括：对钙钛矿量子点薄膜进行激光直写，以形成第一量子点图案；对所述钙钛矿量子点薄膜进行加热，使得所述第一量子点图案消失；以及再次对所述钙钛矿量子点薄膜进行激光直写，以形成第二量子...
该专利属于致晶科技（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过致晶科技（北京）有限公司授权不得商用。

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