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本发明公开了一种高精度温度控制的超稳光学腔，包括真空系统、温度控制系统和综合程序控制系统；所述真空系统用于为高精度温度控制的超稳光学腔提供良好的真空环境；所述温度控制系统用于提高高精度温度控制的超稳光学腔的可操控性和高精度，通过集成在真空腔...
该专利属于华南师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过华南师范大学授权不得商用。

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