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功率半导体器件制造技术
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文档序号:33806001
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本申请公开了功率半导体器件,其包括碳化硅(SiC)半导体层;设置在半导体层中的多个阱区,多个阱区彼此间隔开且具有第二导电类型;分别设置在多个阱区上的半导体层中的多个源极区,其彼此间隔开;具有第一导电类型;以及设置在半导体层中的漂移区,漂移区...
该专利属于现代摩比斯株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过现代摩比斯株式会社授权不得商用。
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