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本申请公开一种立式二级反渗透纯水机，包括：安装架，所述安装架包括底座、安装在底座顶部的控制架、安装在底座顶部的支撑架和安装在支撑架上的限位板，所述限位板上开设有两个半圆形凹槽，所述底座左侧开设有固定槽；控制箱，所述控制箱安装在控制架的顶部；...
该专利属于复皙药业（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过复皙药业（上海）有限公司授权不得商用。

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