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本发明属于热电器件领域，为解决采用传统方法表面处理厚度小于1mm的晶片容易造成晶片破碎损伤，降低了材料的利用率和生产效率的问题，提供一种应用于热电器件的碲化铋基材料的表面处理剂及方法，一种碲化铋的表面处理剂包括粗化液和去灰液，处理工艺简便、...
该专利属于杭州大和热磁电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州大和热磁电子有限公司授权不得商用。

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