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本申请涉及CPI膜生产技术领域，公开了一种CPI膜生产用清灰装置，包括操作箱、下料板、清灰组件和上料组件，所述操作箱的侧壁上开设有呈间隔设置在上料口和下料口，所述上料组件设置在操作箱的侧壁上，且上料组件与上料口相对接，所述下料板倾斜设置在操...
该专利属于惠州艺都高科新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过惠州艺都高科新材料有限公司授权不得商用。

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