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本实用新型公开了一种双工位曝光机，包括设备主体，所述设备主体包括：操作架，所述操作架设置于外固定面上；曝光组件，所述曝光组件左右对称有两组，所述曝光组件设置于操作架内，所述曝光组件的输出端向上设置，通过设置设备主体，自下至上对应变片进行曝光...
该专利属于广东微应变传感科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东微应变传感科技有限公司授权不得商用。

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