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本发明公开了一种分体式气足，属于光刻设备技术领域。分体式气足包括：气足板，所述气足板的底面上开设真空槽，通过对所述真空槽抽真空提供向下的预载力；气浮机构，设于所述气足板上，用于提供向上的气浮力；预载机构，包括设于所述气足板上的预载力传递框架...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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