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本实用新型涉及研磨抛光技术领域，尤其是涉及的是一种球体抛光装置，包括底座、第一电机、支撑架和打磨环，该底座端面设置有多个基台，该基台设有倾斜面，该第一电机设置于该倾斜面上，该第一电机安装有第一打磨盘，该支撑架固定在该底座上，该支撑架顶部设置...
该专利属于闽南理工学院所有，仅供学习研究参考，未经过闽南理工学院授权不得商用。

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