温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种用于IC芯片的ETFE离型膜的制备方法，属于离型膜生产技术领域，包括以下制备步骤：步骤一、选择三种份配比方案，配比：ETFE、紫外线屏蔽剂、抗氧剂、抗静电剂和交联剂，然后分别放入多层共挤流延设备上的三个加料斗；步骤二、通过多...
该专利属于河南源宏高分子新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过河南源宏高分子新材料有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。