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本发明提出了一种辐照工作环境下激光放大装置结构件的水基清洗剂及其清洗方法，属于金属零件的清洗技术领域，由以下原料按重量份制备而成：DBE溶剂2份，3
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该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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