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一种半导体结构及其形成方法，其中方法包括：提供基底，所述基底包括相邻的第一区和第二区以及位于第一区和第二区之间的隔离区，且所述基底上具有介质层；在所述隔离区上形成初始隔离膜；形成所述初始隔离膜之后，在所述介质层内形成栅极开口，且所述栅极开口...
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