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本申请提供一种蒸镀源装置以及真空蒸镀设备，包括壳体，具有空腔以及与空腔连通的开口；坩埚主体，设置于空腔，坩埚主体能够穿过开口；盖体，设置有蒸镀孔，盖体能够封闭开口且能够与坩埚主体抵接，以限制坩埚主体于空腔。该蒸镀源装置可以减少坩埚主体从壳体...
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