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本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机系统。该光刻机系统包括光源模块，光源模块能够发射至少两种能量光束；能量光束调节模块，用于调整能量光束的波长和能量；光学组件模块，光学组件模块用于对能量光束进行共线合轴和聚焦形成贝塞尔光束；四波...
该专利属于深圳市笨辉光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市笨辉光电科技有限公司授权不得商用。

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