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提供一种制造时的断裂受到抑制且相位差不均小的带易粘接层的相位差薄膜。本发明的带易粘接层的相位差薄膜包含具有面内相位差的基材薄膜、以及在基材薄膜的至少一面设置的易粘接层。易粘接层的平均厚度T1与基材薄膜的平均厚度T2之比T1/T2为0.11以...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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