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本发明是有关一种发光元件的微共振腔的多层反射膜及其制程，其步骤包括：（一）、以涂布或溅镀的方法，在一发光元件的透明基板上添加一种高穿透率的高分子化合物，或是高穿透率的无机薄膜，使之至少构成一界面缓冲层；（二）、然后，以制造镀膜的方法在此界面...
该专利属于铼德科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铼德科技股份有限公司授权不得商用。

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