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磊晶层的成长方法技术
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文档序号:3314942
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一种磊晶层的成长方法。首先,提供一基底;接着,形成一缓冲层于基底表面;实行一氢气处理程序;最后,形成一磊晶层于冲层表面。在实行氢气处理程序之前,包括一去除基底的程序。通过在形成束缚层之前,先利用氢气处理缓冲层表面,以避免缓冲层受侵蚀,并可清...
该专利属于威凯科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过威凯科技股份有限公司授权不得商用。
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