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制造有机垂直腔激光阵列装置的方法，该方法包括提供基质和底部电介质叠层的第一部分，该底部电介质叠层反射跨越预定波长范围的光，并且被布置于基质上；为限定一系列被间隔的激光象元阵列，其比象元间区域具有更高反射比以便阵列发射激光，在底部电介质叠层的...
该专利属于伊斯曼柯达公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊斯曼柯达公司授权不得商用。

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