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本公开涉及一种用于制备低聚物的装置，包括：反应器，所述反应器被供应有用于进行低聚反应的单体流和溶剂流；产物排出管线，所述产物排出管线设置在所述反应器的侧面的下部；清洗液供应管线，所述清洗液供应管线与所述产物排出管线的第一点连接；以及清洗液排...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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