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一种MOSFETs栅氧化层陷阱分布的噪声表征方法技术
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文档序号:33131774
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本发明涉及一种MOSFETs的栅氧化层陷阱表征方法,其步骤如下:1)测量转移特性提取阈值电压,在线性区测试器件噪声功率谱密度S
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该专利属于西安电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安电子科技大学授权不得商用。
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