下载用于控制俘获的离子的装置的技术资料

文档序号:33120720

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种用于控制俘获的离子的装置包括第一衬底。第二衬底设置在第一衬底上方。一个或多个第一能级离子阱被配置成俘获第一衬底和第二衬底之间的空间中的离子。一个或多个第二能级离子阱被配置成俘获第二衬底上方的空间中的离子。提供在第二衬底中的开口,通过该开...
该专利属于英飞凌科技奥地利有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技奥地利有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。