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本发明涉及生物技术领域，且公开了包括以下步骤：S1、将基片清洗干净后，将处理好的基底放入等离子体真空设备中，等离子体处理2
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该专利属于苏州贝蒂克生物技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州贝蒂克生物技术有限公司授权不得商用。

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