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本申请提供一种掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法。该方法包括：获取光学邻近效应校正OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案；分别基于OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案，计算得到第一水平集函数和第二水平集函数；将第一水平集函数作为...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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