下载一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法的技术资料

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本发明涉及一种含缩酮结构酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法,所述制备方法包括如下合成路线:其中,R1为C1~C6的烷基,R2为氢原子或C1~C6的烷基;所述制备方法包括如下步骤:a)将式Ⅱ化合物、催化剂加入至有机溶剂中,然后加入式Ⅲ化合物,经过...
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