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本发明提供一种静电吸盘以及半导体制造装置，其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。具体而言，静电吸盘具备陶瓷电介体基板、基座板、加热器部，其特征为，加热器部具备具有多个辅助区的第1加热器元件，多个辅助区具有第1辅助区，第1辅助区具有因电...
该专利属于TOTO株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过TOTO株式会社授权不得商用。

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